Litografia ultravioleta extrema (EUVL)
A litografia ultravioleta extrema (EUVL) é uma tecnologia litográfica que utiliza um comprimento de onda ultravioleta extremo (EUV), actualmente 13,5 nm. Ela está sendo desenvolvida para permitir a fabricação de semicondutores no nó de 20 nm e mais além. O maior desafio no desenvolvimento da EUVL é criar uma fonte de luz que emita o … Ler mais