A fotolitografia é o processo de usar a luz para criar padrões numa superfície. É o passo chave na fabricação de semicondutores, e permite a criação de características muito pequenas sobre uma variedade de materiais.
O processo básico da fotolitografia começa com a criação de uma máscara, que é um modelo que será usado para criar o padrão desejado em uma superfície. A máscara é colocada sobre a superfície, e a luz é iluminada através dela. As áreas expostas à luz da superfície a ser gravada, enquanto as áreas mascaradas permanecem intocadas.
As áreas expostas são então gravadas, normalmente usando um processo químico. A gravura remove o material das áreas expostas, criando o padrão desejado.
A fotolitografia é um processo altamente preciso e capaz de criar características com apenas alguns nanômetros de tamanho. Isto torna-a ideal para aplicações como a fabricação de semicondutores, onde são necessárias características muito pequenas. O que é a litografia na fabricação de chips? A litografia é um processo de padronização de um material utilizando um processo químico sensível à luz. É o principal processo de fabricação na indústria de semicondutores, onde é usado para criar padrões em pastilhas de silício.
A litografia funciona criando primeiro uma máscara, que é um estêncil do padrão desejado. A máscara é então utilizada para transferir o padrão para um fotossensível à luz, que é um material que altera as suas propriedades quando exposto à luz. O fotossensível é então desenvolvido, o que cria o padrão desejado sobre o material.
A litografia é um processo complexo, e existem muitos tipos diferentes de ferramentas litográficas que são utilizadas na indústria de semicondutores. As ferramentas litográficas mais comuns são as ferramentas litográficas ópticas, que utilizam luz para modelar o material, e as ferramentas litográficas ultravioleta extrema (EUV), que utilizam luz ultravioleta de alta energia para modelar o material.
A litografia é um processo crítico na indústria de semicondutores, e está em constante evolução para satisfazer as exigências de tamanhos de características cada vez mais reduzidos.
Quais são os dois processos envolvidos na fotolitografia?
Os dois processos envolvidos na fotolitografia são a exposição à luz e o desenvolvimento.
A exposição é o processo de usar a luz para criar uma imagem latente em um material sensível à luz. Esta imagem latente é então usada como um modelo para fazer uma imagem permanente. O desenvolvimento é o processo de converter a imagem latente em uma imagem permanente.
Qual é a diferença entre litografia e fotolitografia?
Litografia é um processo de impressão em que um desenho é transferido para um substrato (geralmente papel) usando um meio (geralmente tinta ou cera) que é repelido pela superfície do substrato. A fotolitografia é um processo em que um desenho é transferido para um substrato usando luz.
O que são os tipos de fotolitografia?
Existem dois tipos de fotolitografia: óptica e ultravioleta extrema (EUV).
A fotolitografia óptica é o tipo mais comum e usa luz ultravioleta (UV) para expor um material sensível à luz, chamado fotossensível, para criar padrões em um substrato.
A fotolitografia EUV utiliza luz de comprimento de onda mais curto, na faixa ultravioleta extrema, para a exposição de um fotossensível. Este tipo de fotolitografia é menos comum e é mais utilizado para a fabricação avançada de semicondutores.
Como funciona a litografia UV?
A litografia UV é um processo de fabrico em que os padrões são criados num material fotossensível utilizando luz ultravioleta (UV). O material é então desenvolvido, normalmente usando um processo químico, para criar o padrão desejado.
O processo de padronagem começa com a criação de uma máscara, que é um modelo que define o padrão a ser criado. A máscara é colocada sobre um material fotossensível, que é exposto à luz UV. A luz UV causa uma reação química no material que resulta na remoção seletiva do material. O material restante é então desenvolvido, normalmente usando um processo químico, para criar o padrão desejado.